11月29日，中科院研造的“超区分光刻装置”通过验收。新闻传着传着，就成了谣言——《国产光刻机伟大冲破，国产芯片白菜化期近》《冲破荷兰时间封闭，弯道超车》《厉害了我的国，新式光刻机将突破“芯片荒”》……

　　中科院研造的这种光刻机不行（像少少网媒说的）用来光刻CPU。它的意旨是用低廉光源竣工较高的区分率，用于少少异常创造场景，很经济。

　　先注脚下：光刻机不仅是创造芯片用。一张平面（岂论硅片依旧什么资料）念刻出繁复的图案，都可能用光刻——就像影相，图像投正在感光底片上，蚀掉一片面。半个多世纪前，美国人用这个道理“印刷”电途，从而有了大领域集成电途——芯片。

　　为了节能和省硅料，芯片越做越幼，逼得光刻机越做越非常。线条细到肯定水平，投影就隐约了。要清楚投影，线条粗细不行低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫表光源，好刻10纳米以下的线条。

　　但安稳的、大功率的极紫表光源很难造，一个得3000万元公民币。恳求职业情况厉苛，配合的光学和机器部件又非常稹密，于是荷兰的ASML公司独家垄断极紫表光刻机，成立了“一台卖一亿美金”的神话。

　　十几年前，国际上着手对轮廓等离子体（surfaceplasma，SP）光刻法感意思。中科院光电所从2003年着手切磋，是较早出成绩的一个团队。所谓SP，光电所的科学家杨勇向笔者注脚：拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有少少乱蹦的电子；光投影正在金属上，这些电子就有序地震摇，发生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。

　　但这种电磁波很弱，于是光刻胶得凑近了，本事刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的，起码以现正在的时间不行。

　　验收会上也有记者问：该光刻兴办能不行刻芯片，突破海表垄断？光电所专家答复说，用于芯片须要占领一系列时间困难，间隔还很遥远。

　　总之，中科院的22纳米区分率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就宛如说中国出了个赛跑名将要超越博尔特。

　　各家媒体第临时光报出的新闻，就我看到的还算中规中矩。但其后网媒枝节横生，搞到离谱。有些宣称者为吸引眼球、赢利，最爱创造“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技劳绩先往大里吹，驴吹成马，马吹成骆驼，好卖个骆驼价。

　　这种“科技报道”是餍足虚荣心的伪信息。熟手听了眉头一紧，避之大吉。也难怪很多科学家怕上信息。